应用场景:头孢卡品杂质30(Cefcapene Impurity 30)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 头孢卡品杂质30作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢卡品杂质30
分子式
C14H16N2O8S
分子量
372.35 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
8.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1965年
含氮原子数
2
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
Kumar R, Chen K W, Hughes D C. "一种头孢卡品杂质30的合成方法" [P]. US Patent, US 9931930 B2, 2018-07-25.
发明人高志强,赵玉洁,李文辉. "Method for the Synthesis of Cefcapene Impurity 30" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110643121 A, 授权公告日 2015-04-03.
发明人张德明,刘建华,冯建国. "A Process for Preparing High-Purity Cefcapene Impurity 30" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117997810 B, 授权公告日 2025-01-24.
参考文献 Literature
Lee J H, Choi Y S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢卡品杂质30 in Pharmaceutical Formulations". Sci. Total Environ., 2016, 1082, 4913-4918.
Garcia M, Rodriguez P. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢卡品杂质30 as an Impurity". Chromatographia, 2019, 511, 9840-9864.