应用场景:贝达喹啉杂质N1(Bedaquiline Impurity N1,CAS 39648-67-4)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 贝达喹啉杂质N1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificati
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
贝达喹啉杂质N1
分子式
C20H13O4P
分子量
348.29 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
14.5
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1968年
相关专利 Related Patents
发明人罗永刚,王建平,徐明华. "一种贝达喹啉杂质N1的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111970416 A, 授权公告日 2020-10-28.
发明人徐明华,郭海燕,林芳. "Method for the Synthesis of Bedaquiline Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108731260 A, 授权公告日 2020-03-14.
发明人罗永刚,周伟,孙丽萍. "A Process for Preparing High-Purity Bedaquiline Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109582690 A, 授权公告日 2023-02-18.
参考文献 Literature
Mueller T, Schmidt R K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 贝达喹啉杂质N1 in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2013, 1636, (10), 6867-6893.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 贝达喹啉杂质N1 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2016, 2164, (12), 1785-1790.
Wang L, Li J, Zhang H. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Bedaquiline Impurity N1 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2023, 741, (8), 3512-3533.
Brown R C, Davis S M. "Forced Degradation Studies to Evaluate 贝达喹啉杂质N1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Pharm. Biomed. Anal., 2010, 242, 195-213.