应用场景:从实际应用出发,氟桂利嗪杂质N1(CAS 123375-94-0)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 氟桂利嗪杂质N1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性数
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
氟桂利嗪杂质N1
分子式
C26H26F2N2O
分子量
420.49 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
室温保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
14.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1992年
卤素含量
F取代
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
Mueller T, Schröder R, Stevens L M. "一种氟桂利嗪杂质N1的合成方法" [P]. US Patent, US 9582244 B2, 2015-12-16.
Mueller T C, Jørgensen K, Kowalski A. "Method for the Synthesis of Flunarizine Impurity N1" [P]. European Patent, EP 3773169 A1, 2019-09-25.
发明人韩伟,刘建华,孙丽萍. "A Process for Preparing High-Purity Flunarizine Impurity N1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111176708 B, 授权公告日 2015-11-08.
参考文献 Literature
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Lee J H, Choi Y S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 氟桂利嗪杂质N1 as an Impurity". Anal. Methods, 2011, 1055, 9340-9351.
Mueller T, Schmidt R K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Flunarizine Impurity N1 Using HRMS and NMR". Sci. Total Environ., 2012, 273, (3), 5136-5142.
Martinez C, Lopez D R. "Forced Degradation Studies to Evaluate 氟桂利嗪杂质N1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2010, 2389, 6729-6744.