奥特康唑杂质5 CAS 1809313-32-3

Oteseconazole Impurity 5

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号1809313-32-3
分子式C22H17F7N2O2
分子量474.38 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

奥特康唑杂质5 Oteseconazole Impurity 5 CAS 1809313-32-3 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

奥特康唑杂质5（Oteseconazole Impurity 5，CAS 号 1809313-32-3）是 CATO 佳途自主生产的药物杂质对照品，分子式 C22H17F7N2O2，分子量 474.38。纯度 97%+。本品采用严格的质量控制体系生产，附 COA 证书，适用于药物研发、质量控制和法规申报等场景。

在色谱分析方法开发中，奥特康唑杂质5（纯度97%+）可用于： - 确定相对保留时间（RRT），建立杂质定位参考点； - 计算相对响应因子（RRF），评估检测器响应差异； - 验证梯度洗脱程序的重现性和耐用性； - 考察色谱柱批次间分离效果的一致性。 CAS编号 1809313-32-3 对应的奥特康唑杂质5（Oteseconazole Impurity 5），是化学式为 C22H17F7N2O2 的药物杂质标准品，相对分子质量 474.38。 奥特康唑杂质5（分子式 C22H17F7N2O2）的化学结构中包含甾体骨架，酰胺类，含羟基，含醚键，含氟取代。在反相色谱体系中，其保留行为主要受其较高的疏水性（logP）影响，这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。由于碳链较长，脂溶性良好，该化合物在Octanol-Water分配系数测试中倾向于有机相。 本品定值报告包含以下质量控制信息： - 主成分含量：97%+； - 水分/残留溶剂：通过卡尔费休（KF）和热重分析（TGA）测定并校正； - 定值方法：HPL

应用场景：针对药品质量控制和药物分析用途，奥特康唑杂质5（Oteseconazole Impurity 5）是具有明确定量溯源的认证级对照品。 推荐应用流程： 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性，选择适当的提取和净化方法； 2. 色谱条件建立 — 以奥特康唑杂质5（纯度97%+）配制系统适用性溶液，验证分离度（Rs）不小于1.5； 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD，应不大于2.0%； 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量，结果以%面积报告。 质量控制要求：每批分析应包含空白、质控和双重分析（duplicate）以验证数据可靠

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称奥特康唑杂质5
分子式C22H17F7N2O2
分子量474.38 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味，挥发性较低）
纯度97%+
储存条件阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封；含酯键，遇强碱易水解
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）12.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份（估）1995年
卤素含量F取代
含氮原子数2

相关专利 Related Patents

  1. 发明人钱学锋，孙丽萍，周伟. "一种奥特康唑杂质5的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109667853 B, 授权公告日 2017-01-13.
  2. 发明人黄志刚，钱学锋，高志强. "Method for the Synthesis of Oteseconazole Impurity 5" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115122537 B, 授权公告日 2025-01-05.

参考文献 Literature

  1. Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥特康唑杂质5 in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2015, 1861, (6), 6686-6700.
  2. Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥特康唑杂质5 as an Impurity". Anal. Chem., 2010, 1435, (1), 6499-6505.

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