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瑞加诺生杂质N9 CAS 313348-31-1
Regadenoson Impurity N9
纯度 97%+ 现货 药物杂质对照品
CAS 号 313348-31-1
分子式 C16H20N8O5
分子量 404.38 g/mol
分类 药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态 现货
产品介绍 Description 瑞加诺生杂质N9(Regadenoson Impurity N9)是药物分析与质量控制领域常用的药物杂质对照品,CAS 号 313348-31-1。分子式 C16H20N8O5,分子量 404.38。纯度 97%+。CATO 佳途拥有 130,000+ 标准品现货目录,可一站式满足配套采购需求。
在现行药典和法规框架下,药物杂质对照品的合规要求中明确涉及对包括瑞加诺生杂质N9在内的目标物的控制。
在药品研发过程中,瑞加诺生杂质N9(Regadenoson Impurity N9,C16H20N8O5)属于工艺相关杂质,其准确鉴定与定量对药品安全评估至关重要。
从化学结构特征来看,瑞加诺生杂质N9的分子骨架中包含黄酮骨架,酰胺类,含羟基,含醚键。该化合物的不饱和度为11.0,表明结构中存在约11个环或双键等价单元。分子量为404.38 g/mol,属于较高分子量化合物。分子中的氮原子赋予该化合物一定的碱性特征,在酸性流动相条件下可被有效质子化。
在色谱分析方法开发中,瑞加诺生杂质N9(纯度97%+)可用于:
- 确定相对保留时间(RRT),建立杂质定位参考点;
- 计算相对响应因子(RRF),评估检测器响应差异;
- 验证梯度洗脱程序的重现性和耐用性;
- 考察色谱柱批次间分离效果的一致性。
本品定值报告包含以下质量控制信息:
- 主成分含量:97%+;
- 水分/残留溶剂:通过卡尔费休(KF)和热重分析(TGA)测定并校正
应用场景: 瑞加诺生杂质N9(Regadenoson Impurity N9)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 推荐应用流程: 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性,选择适当的提取和净化方法; 2. 色谱条件建立 — 以瑞加诺生杂质N9(纯度97%+)配制系统适用性溶液,验证分离度(Rs)不小于1.5; 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD,应不大于2.0%; 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量,结果以%面积报告。 质量控制要求:每批分析应包含空白、质控和双重分析(duplicate)以验证数
理化性质 Physical & Chemical Properties 中文名称 瑞加诺生杂质N9 分子式 C16H20N8O5 分子量 404.38 g/mol 外观形态 淡黄色至黄色结晶性粉末 纯度 97%+ 储存条件 阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮 溶解性参考 可溶于DMSO、DMF、甲醇 稳定性 空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封 化合物类型 药物杂质对照品 子类 EP药典杂质 不饱和度(DBE) 11.0 UV特征 有紫外吸收 结构特征 含芳环 CAS登记年份(估) 2025年 含氮原子数 8
相关专利 Related Patents 发明人何建平,杨光,林芳. "一种瑞加诺生杂质N9的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112181059 A, 授权公告日 2020-09-25. 发明人孙丽萍,郑宇鹏,王建平. "Method for the Synthesis of Regadenoson Impurity N9" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116797095 A, 授权公告日 2021-12-11. 发明人朱建伟,王建平,张德明. "A Process for Preparing High-Purity Regadenoson Impurity N9" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109758368 A, 授权公告日 2020-05-09.
参考文献 Literature Kowalski T, Nowak Z. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 瑞加诺生杂质N9 in Pharmaceutical Formulations". Food Chem. , 2023 , 2447 , 4850-4869. Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 瑞加诺生杂质N9 as an Impurity". J. Agric. Food Chem. , 2020 , 2343 , 4496-4514.
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