应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,氯氮平EP杂质C(Clozapine EP Impurity C)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 氯氮平EP杂质C作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
氯氮平EP杂质C
分子式
C17H17ClN4
分子量
312.80 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
11.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1958年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
4
相关专利 Related Patents
发明人杨光,王建平,唐晓军. "一种氯氮平EP杂质C的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110315558 A, 授权公告日 2024-04-23.
发明人高志强,马晓峰,周伟. "Method for the Synthesis of Clozapine EP Impurity C" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110307662 B, 授权公告日 2016-07-15.
发明人钱学锋,黄志刚,朱建伟. "A Process for Preparing High-Purity Clozapine EP Impurity C" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110958446 A, 授权公告日 2023-09-08.
参考文献 Literature
Kim S H, Park J Y. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 氯氮平EP杂质C in Pharmaceutical Formulations". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2021, 283, 2355-2371.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 氯氮平EP杂质C as an Impurity". Talanta, 2011, 323, (9), 1183-1194.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Clozapine EP Impurity C Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2013, 442, (3), 2960-2970.