应用场景:在药品质量控制和药物分析实验室中,奥美拉唑杂质25(CAS 73590-93-9)凭借其>95%的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 法规符合性: 奥美拉唑杂质25作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresh
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
奥美拉唑杂质25
分子式
C8H10ClN HCl
分子量
192.08 g/mol
外观形态
白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味,挥发性较低)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
3.0
UV特征
有紫外吸收
CAS登记年份(估)
1978年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
O'Brien P Q, Yamamoto T, Kumar R. "一种奥美拉唑杂质25的合成方法" [P]. US Patent, US 9364468 B2, 2022-04-03.
发明人杨光,朱建伟,钱学锋. "Method for the Synthesis of Omeprazole Impurity 25" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110158577 A, 授权公告日 2021-04-27.
发明人沈红梅,钱学锋,韩伟. "A Process for Preparing High-Purity Omeprazole Impurity 25" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114707243 B, 授权公告日 2017-02-03.
参考文献 Literature
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 奥美拉唑杂质25 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Methods, 2011, 1763, (8), 9999-10011.
Lee J H, Choi Y S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 奥美拉唑杂质25 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2014, 1946, 7320-7335.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Omeprazole Impurity 25 Using HRMS and NMR". J. Sep. Sci., 2010, 810, 8037-8061.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Forced Degradation Studies to Evaluate 奥美拉唑杂质25 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2017, 988, 2264-2283.