应用场景:托吡司特杂质51(Topiroxostat Impurity 51)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 托吡司特杂质51作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresho
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
托吡司特杂质51
分子式
C7H5N3O
分子量
147.13 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色液体。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
7.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1985年
含氮原子数
3
相关专利 Related Patents
O'Brien P Q, Williams B T, Brown S R. "一种托吡司特杂质51的合成方法" [P]. US Patent, US 10524573 B2, 2015-06-12.
发明人罗永刚,冯建国,郑宇鹏. "Method for the Synthesis of Topiroxostat Impurity 51" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110506562 A, 授权公告日 2015-04-08.
参考文献 Literature
Martinez C, Lopez D R. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 托吡司特杂质51 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2011, 682, 9739-9743.
Kowalski T, Nowak Z. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 托吡司特杂质51 as an Impurity". Anal. Chem., 2010, 1003, 7103-7113.
O'Brien K, Kennedy M L. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Topiroxostat Impurity 51 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2010, 1733, 6781-6790.
Martinez C, Lopez D R. "Forced Degradation Studies to Evaluate 托吡司特杂质51 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Nat. Prod., 2016, 2337, (2), 6600-6618.