应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56(Ceftizoxime Open-ring decarboxylation Dimer Impurity 56)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Thres
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56
分子式
C24H28N10O7S4
分子量
696.80 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>90%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
16.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
10
含硫原子数
4
相关专利 Related Patents
发明人李文辉,何建平,冯建国. "一种头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117786254 A, 授权公告日 2021-06-22.
发明人郭海燕,赵玉洁,周伟. "Method for the Synthesis of Ceftizoxime Open-ring decarboxylation Dimer Impurity 56" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117200443 A, 授权公告日 2021-11-04.
发明人高志强,林芳,周伟. "A Process for Preparing High-Purity Ceftizoxime Open-ring decarboxylation Dimer Impurity 56" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116425857 B, 授权公告日 2025-05-24.
参考文献 Literature
Lee J H, Choi Y S. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chim. Acta, 2014, 631, (2), 7574-7599.
Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢唑肟开环脱羧二聚体杂质56 as an Impurity". Biomed. Chromatogr., 2024, 932, (10), 8998-9020.
O'Brien K, Kennedy M L. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Ceftizoxime Open-ring decarboxylation Dimer Impurity 56 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2024, 2215, (9), 6772-6791.