应用场景:特立齐酮杂质4(Terizidone Impurity 4)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 特立齐酮杂质4作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
特立齐酮杂质4
分子式
C12H14N2O4
分子量
250.25 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
7.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
Yamamoto T, Anderson J P, Williams B T. "一种特立齐酮杂质4的合成方法" [P]. US Patent, US 11871131 B2, 2020-03-02.
发明人唐晓军,杨光,刘建华. "Method for the Synthesis of Terizidone Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115976944 B, 授权公告日 2023-04-15.
参考文献 Literature
Yang F, Sun W, Liu J. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 特立齐酮杂质4 in Pharmaceutical Formulations". Chemosphere, 2011, 524, 7811-7814.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 特立齐酮杂质4 as an Impurity". Sci. Total Environ., 2023, 1080, 2054-2068.
Zhang Y, Li Q, Chen T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Terizidone Impurity 4 Using HRMS and NMR". Anal. Methods, 2017, 232, (3), 2707-2727.
Kowalski T, Nowak Z. "Forced Degradation Studies to Evaluate 特立齐酮杂质4 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2022, 2192, 6716-6738.