应用场景:从实际应用出发,五氟利多杂质10(CAS 262272-58-2)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 五氟利多杂质10作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性数
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
五氟利多杂质10
分子式
C12H11ClF3N
分子量
261.67 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色低熔点固体。(具有轻微卤代物特征气味,挥发性较低)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
2025年
卤素含量
F/Cl取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
Thompson G K, Davis P L, Chen K W. "一种五氟利多杂质10的合成方法" [P]. US Patent, US 10441536 B2, 2015-11-13.
发明人胡光,徐明华,唐晓军. "Method for the Synthesis of Penfluridol Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115506338 B, 授权公告日 2021-12-06.
发明人钱学锋,何建平,李文辉. "A Process for Preparing High-Purity Penfluridol Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117748601 A, 授权公告日 2023-04-24.
参考文献 Literature
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Mueller T, Schmidt R K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Penfluridol Impurity 10 Using HRMS and NMR". Molecules, 2024, 1036, 7480-7484.
Martinez C, Lopez D R. "Forced Degradation Studies to Evaluate 五氟利多杂质10 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Chim. Acta, 2023, 255, (10), 366-391.