卤米松杂质8 CAS 28895-70-7

Halometasone Impurity 8

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号28895-70-7
分子式C23H24AClF2O6
分子量469.88 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

卤米松杂质8 Halometasone Impurity 8 CAS 28895-70-7 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

卤米松杂质8（Halometasone Impurity 8，CAS 号 28895-70-7）是 CATO 佳途自主生产的药物杂质对照品，分子式 C23H24AClF2O6，分子量 469.88。纯度 97%+。本品采用严格的质量控制体系生产，附 COA 证书，适用于药物研发、质量控制和法规申报等场景。

与同类药物杂质对照品相比，卤米松杂质8的分子量为469.88 g/mol这一特征使其在色谱分离条件和质谱检测参数设置上具有独特性。 在药品研发过程中，卤米松杂质8（Halometasone Impurity 8，C23H24AClF2O6）属于工艺相关杂质，其准确鉴定与定量对药品安全评估至关重要。 依据分子式为 C23H24AClF2O6 的卤米松杂质8结构特征，其分子内含黄酮骨架，含羟基，含醚键，含氟/氯取代，这意味着该化合物在紫外光谱中会呈现特征性的吸收带。分子量 469.88 g/mol 这一参数对质谱检测中的分子离子峰识别具有直接参考价值。由于结构中存在共轭发色团，该化合物在200-400 nm区间具有显著的紫外吸收，便于HPLC-UV检测。 在定量分析中，卤米松杂质8（纯度97%+）适用于： - 外标法定量原料药或制剂中特定杂质的含量； - 加标回收实验评估分析方法的准确度； - 检测限/定量限（LOD/LOQ）的测定验证方法灵敏度； - 在LC-MS/MS多反应监测（MRM）模式中作为校正标准品使用。 作为认证标准物质（CRM），卤米

应用场景：从实际应用出发，卤米松杂质8（CAS 28895-70-7）在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 关键分析参数优化： - 检测波长 ：254nm（可根据实际情况在210-280 nm范围内优化）； - 柱温 ：推荐30-35°C，确保保留时间重现性； - 进样量 ：推荐10-20 μL，检测灵敏度不足时可适当增加； - 流速 ：1.0 mL/min（4.6 mm内径色谱柱）或相应比例调整。 基质效应评估 ：建议采用柱后注入法或提取后加入法评估基质效应，必要时采用基质匹配标准曲线或同位素内标克服基质干扰。 使用建议： - 称量前将样品在干

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称卤米松杂质8
分子式C23H24AClF2O6
分子量469.88 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味，挥发性较低）
纯度97%+
储存条件室温保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水（微溶）
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；含酯键，遇强碱易水解
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）10.5
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份（估）1965年
卤素含量F/Cl取代

相关专利 Related Patents

  1. 发明人罗永刚，沈红梅，张德明. "一种卤米松杂质8的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108145486 A, 授权公告日 2023-07-14.
  2. O'Brien P Q, Brown S R, Hughes D C. "Method for the Synthesis of Halometasone Impurity 8" [P]. US Patent, US 10954317 B2, 2018-03-14.

参考文献 Literature

  1. Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 卤米松杂质8 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chem., 2015, 1758, 8548-8578.
  2. Xu M, Hu Y, Zhou D. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 卤米松杂质8 as an Impurity". J. Sep. Sci., 2021, 1520, (3), 9390-9415.

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