应用场景:在药品质量控制和药物分析实验室中,头孢呋辛酯EP杂质D(CAS 55268-75-2)凭借其>95%的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 法规符合性: 头孢呋辛酯EP杂质D作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Th
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢呋辛酯EP杂质D
分子式
C16H16N4O8S
分子量
424.39 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
11.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1972年
含氮原子数
4
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人唐晓军,周伟,郭海燕. "一种头孢呋辛酯EP杂质D的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110044321 A, 授权公告日 2016-11-17.
发明人刘建华,王建平,周伟. "Method for the Synthesis of Cefuroxime Axetil EP Impurity D" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110393354 A, 授权公告日 2015-09-27.
发明人徐明华,林芳,朱建伟. "A Process for Preparing High-Purity Cefuroxime Axetil EP Impurity D" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116758401 A, 授权公告日 2016-04-19.
参考文献 Literature
Kowalski T, Nowak Z. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢呋辛酯EP杂质D in Pharmaceutical Formulations". Phytochemistry, 2013, 1377, 1133-1141.
Zhang Y, Li Q, Chen T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢呋辛酯EP杂质D as an Impurity". Anal. Chim. Acta, 2012, 1101, 14-40.
Yang F, Sun W, Liu J. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefuroxime Axetil EP Impurity D Using HRMS and NMR". Anal. Methods, 2018, 1410, (4), 8745-8768.