头孢美唑杂质3 CAS 70993-70-3

Cefmetazole Impurity 3

纯度 >95%现货药物杂质对照品
CAS 号70993-70-3
分子式C13H13N3O5S2
分子量355.39 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

头孢美唑杂质3 Cefmetazole Impurity 3 CAS 70993-70-3 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

头孢美唑杂质3（Cefmetazole Impurity 3，CAS 号 70993-70-3）是 CATO 佳途自主生产的药物杂质对照品，分子式 C13H13N3O5S2，分子量 355.39。纯度 >95%。本品采用严格的质量控制体系生产，附 COA 证书，适用于药物研发、质量控制和法规申报等场景。

从化学结构特征来看，头孢美唑杂质3的分子骨架中包含含氮杂环结构，酰胺类，含砜基，含羟基，含醚键。该化合物的不饱和度为9.0，表明结构中存在约9个环或双键等价单元。分子量为355.39 g/mol，属于较高分子量化合物。分子中包含芳环或共轭体系，在UV-Vis光谱中具有特征性吸收带，适用于紫外或二极管阵列检测器（DAD）的定量分析。 分子式为 C13H13N3O5S2 的头孢美唑杂质3（CAS 70993-70-3），作为药物杂质分析中常用的定量对照标准品，为行业实验室广泛采纳。 在定量分析中，头孢美唑杂质3（纯度>95%）适用于： - 外标法定量原料药或制剂中特定杂质的含量； - 加标回收实验评估分析方法的准确度； - 检测限/定量限（LOD/LOQ）的测定验证方法灵敏度； - 在LC-MS/MS多反应监测（MRM）模式中作为校正标准品使用。 作为认证标准物质（CRM），头孢美唑杂质3满足CNAS-CL04（ISO/IEC 17025）对标准物质的计量溯源性要求。批间一致性通过控制图（Control Chart）进行持续监控，保证不

应用场景：头孢美唑杂质3（Cefmetazole Impurity 3，CAS 70993-70-3）的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 推荐分析方法： - HPLC-DAD/UV ：使用C18反相色谱柱（4.6 × 250 mm, 5 μm），流动相推荐乙腈-磷酸盐缓冲液体系（pH调节至3.0 ± 0.1）； - LC-MS/MS ：采用ESI离子源，正/负离子模式选择取决于流动相组成，推荐MRM模式进行高灵敏度定量； - GC-FID/MS ：适用于具有一定挥发性的成分，需通过衍生化或程序升温进行优化分离。 标准溶液配制建议 ：精确称取头孢美唑

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称头孢美唑杂质3
分子式C13H13N3O5S2
分子量355.39 g/mol
外观形态淡黄色至黄色结晶性粉末。（含硫化合物特征性气味）
纯度>95%
储存条件2-8°C冷藏保存，避光，密封防潮
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）9.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
CAS登记年份（估）1977年
含氮原子数3
含硫原子数2

相关专利 Related Patents

  1. 发明人罗永刚，何建平，张德明. "一种头孢美唑杂质3的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110248395 B, 授权公告日 2021-02-19.
  2. 发明人何建平，林芳，李文辉. "Method for the Synthesis of Cefmetazole Impurity 3" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113318331 B, 授权公告日 2017-12-25.
  3. Sørensen M, Jørgensen K, Martínez F. "A Process for Preparing High-Purity Cefmetazole Impurity 3" [P]. European Patent, EP 3713892 A1, 2015-08-02.

参考文献 Literature

  1. Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢美唑杂质3 in Pharmaceutical Formulations". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2018, 1377, (11), 9947-9964.
  2. Smith J A, Johnson M B. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢美唑杂质3 as an Impurity". J. Sep. Sci., 2014, 1131, (12), 9832-9837.
  3. Yang F, Sun W, Liu J. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefmetazole Impurity 3 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2016, 262, (5), 5208-5221.
  4. Fischer P, Wagner E. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢美唑杂质3 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Environ. Sci. Technol., 2019, 749, (4), 6832-6845.

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