应用场景:从实际应用出发,头孢他美杂质6(CAS CATO-C4X-12876)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 法规符合性: 头孢他美杂质6作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢他美杂质6
分子式
C28H28N10O9S4
分子量
776.84 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色无定形粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
阴凉处(≤25°C)保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
20.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
10
含硫原子数
4
相关专利 Related Patents
发明人何建平,郑宇鹏,孙丽萍. "一种头孢他美杂质6的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110312856 A, 授权公告日 2022-03-20.
发明人李文辉,朱建伟,郭海燕. "Method for the Synthesis of Cefetamet Impurity 6" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113074137 B, 授权公告日 2015-10-11.
参考文献 Literature
Kowalski T, Nowak Z. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢他美杂质6 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chim. Acta, 2023, 1658, (10), 2082-2085.
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢他美杂质6 as an Impurity". Food Chem., 2021, 788, (11), 6177-6200.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefetamet Impurity 6 Using HRMS and NMR". Sci. Total Environ., 2010, 198, (3), 4201-4209.
Yang F, Sun W, Liu J. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢他美杂质6 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2017, 1646, (3), 3915-3930.