应用场景:愈创奥杂质4(Guaiazulene Impurity 4)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 愈创奥杂质4作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
愈创奥杂质4
分子式
C15H16O2
分子量
228.29 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
8.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
相关专利 Related Patents
Björnsson E, Schröder R, Johansson L. "一种愈创奥杂质4的合成方法" [P]. European Patent, EP 3819244 A1, 2019-09-18.
发明人高志强,唐晓军,韩伟. "Method for the Synthesis of Guaiazulene Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111851012 B, 授权公告日 2020-06-16.
发明人高志强,韩伟,钱学锋. "A Process for Preparing High-Purity Guaiazulene Impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108606412 B, 授权公告日 2017-03-23.
参考文献 Literature
Yang F, Sun W, Liu J. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 愈创奥杂质4 in Pharmaceutical Formulations". J. Sep. Sci., 2011, 2337, (8), 3518-3540.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 愈创奥杂质4 as an Impurity". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2023, 1725, (12), 3225-3230.
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Guaiazulene Impurity 4 Using HRMS and NMR". Molecules, 2011, 1778, 4118-4148.