应用场景:达普司他杂质4(Daprodustat impurity 4,CAS CATO-C4X-24074)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 达普司他杂质4作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificat
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
达普司他杂质4
分子式
C18H27N3O4
分子量
349.42 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
7.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
3
相关专利 Related Patents
发明人孙丽萍,罗永刚,韩伟. "一种达普司他杂质4的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116481880 A, 授权公告日 2018-06-10.
发明人赵玉洁,李文辉,刘建华. "Method for the Synthesis of Daprodustat impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114566822 B, 授权公告日 2018-11-07.
发明人林芳,孙丽萍,何建平. "A Process for Preparing High-Purity Daprodustat impurity 4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114146496 B, 授权公告日 2015-12-07.
参考文献 Literature
Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 达普司他杂质4 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chem., 2021, 2380, (12), 3325-3343.
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 达普司他杂质4 as an Impurity". Chemosphere, 2020, 1434, 6722-6752.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Daprodustat impurity 4 Using HRMS and NMR". Environ. Sci. Technol., 2022, 1189, 9770-9777.
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Forced Degradation Studies to Evaluate 达普司他杂质4 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Chromatogr. A, 2025, 562, 7209-7221.