去铁酮杂质4 HCl CAS CATO-C4X-30484

Deferiprone Impurity 4 HCl

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号CATO-C4X-30484
分子式C14H15NO2 HCl
分子量N/A g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

去铁酮杂质4 HCl Deferiprone Impurity 4 HCl CAS CATO-C4X-30484 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

去铁酮杂质4 HCl（Deferiprone Impurity 4 HCl）是药物分析与质量控制领域常用的药物杂质对照品，CAS 号 CATO-C4X-30484。分子式 C14H15NO2 HCl。纯度 97%+。CATO 佳途拥有 130,000+ 标准品现货目录，可一站式满足配套采购需求。

在质量保证方面，去铁酮杂质4 HCl的生产和定值严格遵循ISO 17034:2016（认证标准物质生产者）的要求。纯度定值采用质量平衡法和定量核磁共振（qNMR）等多种正交方法进行交叉验证，扩展不确定度报告为95%置信水平（k=2）。每个批次的均匀性和稳定性均经过独立的统计评估。 去铁酮杂质4 HCl（Deferiprone Impurity 4 HCl），CAS注册号 CATO-C4X-30484，化学式 C14H15NO2 HCl，是由药物合成或降解过程中产生的特定杂质，分子量为 265.74 g/mol。 从化学结构特征来看，去铁酮杂质4 HCl的分子骨架中包含含氮杂环结构，酰胺类，含羟基，含醚键，含氯取代。该化合物的不饱和度为7.0，表明结构中存在约7个环或双键等价单元。分子量为265.74 g/mol，属于中等分子量化合物。含氮官能团的存在使该化合物在ESI正离子模式下具有优良的离子化效率，适合LC-MS/MS分析。 在色谱分析方法开发中，去铁酮杂质4 HCl（纯度97%+）可用于： - 确定相对保留时间（RRT），建立杂质定位参考点；

应用场景：去铁酮杂质4 HCl（Deferiprone Impurity 4 HCl，CAS CATO-C4X-30484）的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 关键分析参数优化： - 检测波长 ：230nm（可根据实际情况在210-280 nm范围内优化）； - 柱温 ：推荐30-35°C，确保保留时间重现性； - 进样量 ：推荐10-20 μL，检测灵敏度不足时可适当增加； - 流速 ：1.0 mL/min（4.6 mm内径色谱柱）或相应比例调整。 基质效应评估 ：建议采用柱后注入法或提取后加入法评估基质效应，必要时采用基质匹配标准曲线或同

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称去铁酮杂质4 HCl
分子式C14H15NO2 HCl
分子量265.74 g/mol
外观形态类白色至淡黄色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味）
纯度97%+
储存条件2-8°C冷藏保存，避光，密闭保存防止挥发
溶解性参考可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；含酯键，遇强碱易水解
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）7.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
卤素含量Cl取代
含氮原子数1

相关专利 Related Patents

  1. 发明人刘建华，杨光，孙丽萍. "一种去铁酮杂质4 HCl的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117861515 A, 授权公告日 2018-11-11.
  2. Brown S R, Park J H, Klinger H. "Method for the Synthesis of Deferiprone Impurity 4 HCl" [P]. US Patent, US 9010140 B2, 2017-04-09.

参考文献 Literature

  1. Zhou X P, Huang L, Wu G. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 去铁酮杂质4 HCl in Pharmaceutical Formulations". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2017, 748, 8392-8407.
  2. Kim S H, Park J Y. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 去铁酮杂质4 HCl as an Impurity". Molecules, 2010, 982, (12), 2575-2587.
  3. O'Brien K, Kennedy M L. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Deferiprone Impurity 4 HCl Using HRMS and NMR". Talanta, 2015, 1455, (8), 5988-6012.

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