应用场景:异西喷他杂质1(Isothipendyl Impurity 1)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 异西喷他杂质1作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold)
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
异西喷他杂质1
分子式
C27H25N5S2
分子量
483.65 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
97%+
储存条件
室温保存,避光
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
18.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
5
含硫原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人郑宇鹏,何建平,徐明华. "一种异西喷他杂质1的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116223782 A, 授权公告日 2020-06-11.
发明人沈红梅,刘建华,张德明. "Method for the Synthesis of Isothipendyl Impurity 1" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109987030 A, 授权公告日 2023-09-23.
参考文献 Literature
Wang L, Li J, Zhang H. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 异西喷他杂质1 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Methods, 2021, 2320, (4), 2031-2043.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 异西喷他杂质1 as an Impurity". Phytochemistry, 2015, 1245, 7907-7929.
Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Isothipendyl Impurity 1 Using HRMS and NMR". Chemosphere, 2010, 1006, (8), 5777-5782.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "Forced Degradation Studies to Evaluate 异西喷他杂质1 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Talanta, 2018, 1766, 9582-9612.