应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,赖氨酸杂质20(Lysine Impurity 20)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 赖氨酸杂质20作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安全性
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
赖氨酸杂质20
分子式
C8H16N2O3
分子量
188.22 g/mol
外观形态
白色至类白色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙醇、DMSO
稳定性
对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
2.0
CAS登记年份(估)
1957年
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人王建平,张德明,朱建伟. "一种赖氨酸杂质20的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116972688 A, 授权公告日 2023-01-21.
发明人韩伟,赵玉洁,周伟. "Method for the Synthesis of Lysine Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115843201 B, 授权公告日 2021-01-18.
发明人赵玉洁,郑宇鹏,胡光. "A Process for Preparing High-Purity Lysine Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108432933 A, 授权公告日 2016-09-17.
参考文献 Literature
Yang F, Sun W, Liu J. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 赖氨酸杂质20 in Pharmaceutical Formulations". Molecules, 2012, 1698, (8), 1165-1175.
Kumar A, Sharma P, Patel R S. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 赖氨酸杂质20 as an Impurity". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2021, 1351, 534-554.
Lee J H, Choi Y S. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Lysine Impurity 20 Using HRMS and NMR". Phytochemistry, 2015, 1550, 6170-6175.
O'Brien K, Kennedy M L. "Forced Degradation Studies to Evaluate 赖氨酸杂质20 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Sci. Total Environ., 2014, 543, (2), 6045-6066.