应用场景:地夸磷索杂质N9(Diquafosol Impurity N9,CAS 42155-08-8)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 地夸磷索杂质N9作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificatio
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
地夸磷索杂质N9
分子式
C9H11N2O8P 2*Na
分子量
329.16 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙醇、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
5.5
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1969年
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人胡光,徐明华,王建平. "一种地夸磷索杂质N9的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111346899 A, 授权公告日 2017-12-01.
Johnson M A, Klinger H, Brown S R. "Method for the Synthesis of Diquafosol Impurity N9" [P]. US Patent, US 11105528 B2, 2020-10-19.
发明人胡光,赵玉洁,冯建国. "A Process for Preparing High-Purity Diquafosol Impurity N9" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111186662 A, 授权公告日 2018-11-10.
参考文献 Literature
Jensen P, Larsen A M, Olsen K. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 地夸磷索杂质N9 in Pharmaceutical Formulations". Environ. Sci. Technol., 2021, 417, 590-596.
Fischer P, Wagner E. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 地夸磷索杂质N9 as an Impurity". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2018, 1532, 9347-9364.
Brown R C, Davis S M. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Diquafosol Impurity N9 Using HRMS and NMR". Talanta, 2010, 893, (4), 6392-6410.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Forced Degradation Studies to Evaluate 地夸磷索杂质N9 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". J. Pharm. Biomed. Anal., 2020, 715, 5883-5894.