阿加曲班杂质4 CAS CATO-C4X-10074

Argatroban Impurity 4

纯度 >95%现货药物杂质对照品
CAS 号CATO-C4X-10074
分子式C10H13NO3S HCl
分子量N/A g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

阿加曲班杂质4 Argatroban Impurity 4 CAS CATO-C4X-10074 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

阿加曲班杂质4（Argatroban Impurity 4）是药物分析与质量控制领域常用的药物杂质对照品，CAS 号 CATO-C4X-10074。分子式 C10H13NO3S HCl。纯度 >95%。CATO 佳途拥有 130,000+ 标准品现货目录，可一站式满足配套采购需求。

在现行药典和法规框架下，药物杂质对照品的合规要求中明确涉及对包括阿加曲班杂质4在内的目标物的控制。 阿加曲班杂质4（Argatroban Impurity 4），CAS注册号 CATO-C4X-10074，化学式 C10H13NO3S HCl，是由药物合成或降解过程中产生的特定杂质，分子量为 263.74 g/mol。 受分子结构中含氮杂环结构，酰胺类，含砜基，含羟基，含醚键，含氯取代的影响，阿加曲班杂质4表现为类白色至淡黄色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味，具有氨/胺类微弱气味，含硫化合物特征性气味）。其固体形态的物理化学属性——包括263.74 g/mol的分子量——对于选择合适的样品前处理方法和分析技术具有指导意义。卤素原子的引入增加了化合物的电负性，在ECD（电子捕获检测器）中具有优良的响应灵敏度。 在色谱分析方法开发中，阿加曲班杂质4（纯度>95%）可用于： - 确定相对保留时间（RRT），建立杂质定位参考点； - 计算相对响应因子（RRF），评估检测器响应差异； - 验证梯度洗脱程序的重现性和耐用性； - 考察色谱柱批次间分离效果的

应用场景：从实际应用出发，阿加曲班杂质4（CAS CATO-C4X-10074）在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 推荐应用流程： 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性，选择适当的提取和净化方法； 2. 色谱条件建立 — 以阿加曲班杂质4（纯度>95%）配制系统适用性溶液，验证分离度（Rs）不小于1.5； 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD，应不大于2.0%； 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量，结果以%面积报告。 质量控制要求：每批分析应包含空白、质控和双重分析（duplicate）以验证数据可靠性。

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称阿加曲班杂质4
分子式C10H13NO3S HCl
分子量263.74 g/mol
外观形态类白色至淡黄色结晶性粉末。（具有轻微卤代物特征气味，具有氨/胺类微弱气味，含硫化合物特征性气味）
纯度>95%
储存条件2-8°C冷藏保存，避光，密封防潮，密闭保存防止挥发
溶解性参考可溶于甲醇、乙醇、DMSO
稳定性空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封；含酯键，遇强碱易水解
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度（DBE）4.0
UV特征有紫外吸收
结构特征含芳环
卤素含量Cl取代
含氮原子数1
含硫原子数1

相关专利 Related Patents

  1. Roberts E F, Patel M V, Lee S K. "一种阿加曲班杂质4的合成方法" [P]. US Patent, US 11792803 B2, 2025-10-04.
  2. Nielsen H, Mueller T C, Kowalski A. "Method for the Synthesis of Argatroban Impurity 4" [P]. European Patent, EP 3199492 A1, 2015-04-07.

参考文献 Literature

  1. Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 阿加曲班杂质4 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2022, 934, 86-115.
  2. Hughes D, Roberts J, Thomas A. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 阿加曲班杂质4 as an Impurity". Molecules, 2021, 1153, (12), 1986-2004.
  3. Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Argatroban Impurity 4 Using HRMS and NMR". J. Chromatogr. A, 2021, 1076, (4), 4679-4696.

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