应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,新霉素杂质16(Neomycin Impurity 15)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 新霉素杂质16作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供安
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
新霉素杂质16
分子式
C6H14N2O4
分子量
178.19 g/mol
外观形态
白色至类白色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙醇、DMSO、水
稳定性
对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
1.0
含氮原子数
2
相关专利 Related Patents
发明人沈红梅,钱学锋,赵玉洁. "一种新霉素杂质16的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113348132 A, 授权公告日 2019-02-02.
发明人冯建国,郑宇鹏,唐晓军. "Method for the Synthesis of Neomycin Impurity 15" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110661112 A, 授权公告日 2023-05-01.
发明人胡光,李文辉,郑宇鹏. "A Process for Preparing High-Purity Neomycin Impurity 15" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113713124 B, 授权公告日 2021-03-25.
参考文献 Literature
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 新霉素杂质16 in Pharmaceutical Formulations". J. Nat. Prod., 2012, 1984, (5), 7987-8013.
Xu M, Hu Y, Zhou D. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 新霉素杂质16 as an Impurity". J. Agric. Food Chem., 2010, 462, (7), 2980-3006.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Neomycin Impurity 15 Using HRMS and NMR". Sci. Total Environ., 2019, 735, (8), 9965-9991.