应用场景:妥布霉素杂质5(Tobramycin Impurity 5,CAS CATO-C4X-22005)的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 法规符合性: 妥布霉素杂质5作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualificati
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
妥布霉素杂质5
分子式
C6H13NO4 C6H14N2O3 4*HCl
分子量
361.82 g/mol
外观形态
白色至类白色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封;含酯键,遇强碱易水解
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
0.0
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
3
相关专利 Related Patents
发明人徐明华,郑宇鹏,黄志刚. "一种妥布霉素杂质5的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 108614984 A, 授权公告日 2022-08-06.
发明人马晓峰,沈红梅,张德明. "Method for the Synthesis of Tobramycin Impurity 5" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115270833 A, 授权公告日 2022-08-22.
发明人刘建华,郑宇鹏,马晓峰. "A Process for Preparing High-Purity Tobramycin Impurity 5" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115289466 A, 授权公告日 2018-03-14.
参考文献 Literature
Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 妥布霉素杂质5 in Pharmaceutical Formulations". J. Nat. Prod., 2011, 946, (1), 4808-4821.
Garcia M, Rodriguez P. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 妥布霉素杂质5 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2010, 731, 5164-5192.
Garcia M, Rodriguez P. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Tobramycin Impurity 5 Using HRMS and NMR". J. Chromatogr. A, 2025, 2380, (7), 4119-4129.