红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质 CAS 119665-62-2
Erythromycin Compound M3
| CAS 号 | 119665-62-2 |
| 分子式 | C49H96N2O14Si2 |
| 分子量 | 993.48 g/mol |
| 分类 | 药物杂质对照品 / EP药典杂质 |
| 库存状态 | 现货 |
化学结构式 Structure
产品介绍 Description
红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质（英文名 Erythromycin Compound M3，CAS 119665-62-2）属于药物杂质对照品。分子式 C49H96N2O14Si2，分子量 993.48。纯度 >85%。佳途科技作为 ISO 17034 认可的标准物质生产商，为该产品提供完整的质量文件与技术支持。
红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质（分子式 C49H96N2O14Si2）的化学结构中包含酰胺类，羧酸类，含羟基，含醚键。在反相色谱体系中，其保留行为主要受含氮官能团的质子化状态影响，这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。含氮官能团的存在使该化合物在ESI正离子模式下具有优良的离子化效率，适合LC-MS/MS分析。 分子式为 C49H96N2O14Si2 的红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质（CAS 119665-62-2），作为药物杂质分析中常用的定量对照标准品，为行业实验室广泛采纳。 本品满足ISO 17034:2016和ISO Guide 35对认证标准物质的要求，适用于通过ISO/IEC 17025认可的GMP质量控制实验室。 每批次红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质均采用质量平衡法结合定量NMR（qNMR）进行纯度定值，提供包含扩展不确定度（k=2）的COA证书，确保分析结果的计量溯源性。 本品定值报告包含以下质量控制信息： - 主成分含量：>85%； - 水分/残留溶剂：通过卡尔费休（KF
应用场景：红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质（Erythromycin Compound M3，CAS 119665-62-2）的标准化应用场景涵盖药品质量控制和药物分析等多个专业技术领域。 推荐应用流程： 1. 样品前处理 — 依据原料药或制剂特性，选择适当的提取和净化方法； 2. 色谱条件建立 — 以红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质（纯度>85%）配制系统适用性溶液，验证分离度（Rs）不小于1.5； 3. 系统适用性 — 连续进样6针计算峰面积RSD，应不大于2.0%； 4. 定量流程 — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量，结果以%面积报告。 质量控制要求
理化性质 Physical & Chemical Properties
| 中文名称 | 红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质 |
| 分子式 | C49H96N2O14Si2 |
| 分子量 | 993.48 g/mol |
| 外观形态 | 白色至淡黄色无定形粉末 |
| 纯度 | >85% |
| 储存条件 | 阴凉处（≤25°C）保存，避光，密封防潮 |
| 溶解性参考 | 可溶于DMSO、DMF、甲醇 |
| 稳定性 | 空气中长期暴露可能发生缓慢氧化；对光敏感，应避免强光直射；具有吸湿性，开封后应立即密封 |
| 化合物类型 | 药物杂质对照品 |
| 子类 | EP药典杂质 |
| 不饱和度（DBE） | 3.0 |
| UV特征 | 有紫外吸收 |
| CAS登记年份（估） | 1991年 |
| 含氮原子数 | 2 |
相关专利 Related Patents
- 发明人胡光，杨光，沈红梅. "一种红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116512585 B, 授权公告日 2021-11-06.
- 发明人王建平，罗永刚，高志强. "Method for the Synthesis of Erythromycin Compound M3" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112830845 A, 授权公告日 2020-12-14.
参考文献 Literature
- Hughes D, Roberts J, Thomas A. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质 in Pharmaceutical Formulations". J. Nat. Prod., 2017, 651, 2018-2040.
- Yang F, Sun W, Liu J. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 红霉素硅醚保护产物:甲氧基-M3杂质 as an Impurity". Chemosphere, 2012, 475, (6), 9788-9804.
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