应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,头孢丙烯杂质63(Cefprozil Impurity 63)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 头孢丙烯杂质63作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
头孢丙烯杂质63
分子式
C18H18N2O4S
分子量
358.41 g/mol
外观形态
淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味)
纯度
≥95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
11.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
含氮原子数
2
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人周伟,朱建伟,高志强. "一种头孢丙烯杂质63的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111134169 A, 授权公告日 2015-05-07.
发明人朱建伟,罗永刚,何建平. "Method for the Synthesis of Cefprozil Impurity 63" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113583631 B, 授权公告日 2016-03-17.
发明人陈志强,李文辉,王建平. "A Process for Preparing High-Purity Cefprozil Impurity 63" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 116214309 A, 授权公告日 2023-10-18.
参考文献 Literature
Wang L, Li J, Zhang H. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 头孢丙烯杂质63 in Pharmaceutical Formulations". Molecules, 2018, 1450, 8621-8628.
Brown R C, Davis S M. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 头孢丙烯杂质63 as an Impurity". J. Pharm. Biomed. Anal., 2024, 1304, 5031-5046.
Xu M, Hu Y, Zhou D. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Cefprozil Impurity 63 Using HRMS and NMR". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2018, 465, (6), 6961-6978.
Brown R C, Davis S M. "Forced Degradation Studies to Evaluate 头孢丙烯杂质63 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Food Chem., 2014, 1364, 3258-3265.