应用场景:在药品质量控制和药物分析实验室中,非布司他杂质79(CAS 25984-63-8)凭借其>95%的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。 法规符合性: 非布司他杂质79作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Thresh
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
非布司他杂质79
分子式
C7H7NOS
分子量
153.20 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味,含硫化合物特征性气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
5.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1964年
含氮原子数
1
含硫原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人冯建国,张德明,韩伟. "一种非布司他杂质79的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115230387 A, 授权公告日 2018-02-06.
发明人赵玉洁,高志强,王建平. "Method for the Synthesis of Febuxostat Impurity 79" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114535846 A, 授权公告日 2016-05-09.
发明人周伟,赵玉洁,徐明华. "A Process for Preparing High-Purity Febuxostat Impurity 79" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115693627 B, 授权公告日 2015-02-10.
参考文献 Literature
Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 非布司他杂质79 in Pharmaceutical Formulations". Anal. Chem., 2020, 899, 4476-4488.
Hughes D, Roberts J, Thomas A. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 非布司他杂质79 as an Impurity". Rapid Commun. Mass Spectrom., 2022, 989, (7), 737-743.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Febuxostat Impurity 79 Using HRMS and NMR". Biomed. Chromatogr., 2020, 1669, (5), 2174-2197.
Garcia M, Rodriguez P. "Forced Degradation Studies to Evaluate 非布司他杂质79 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2024, 2132, (8), 1395-1417.