替米沙坦杂质N4 CAS 89323-10-4

Telmisartan Impurity N4

纯度 97%+现货药物杂质对照品
CAS 号89323-10-4
分子式C5H6N4O
分子量138.13 g/mol
分类药物杂质对照品 / EP药典杂质
库存状态现货

化学结构式 Structure

替米沙坦杂质N4 Telmisartan Impurity N4 CAS 89323-10-4 结构式 Chemical Structure

产品介绍 Description

本产品为药物杂质对照品替米沙坦杂质N4(Telmisartan Impurity N4,CAS 89323-10-4),分子式 C5H6N4O,分子量 138.13。纯度 97%+。适用于分析方法开发、方法验证及日常质检,CATO 提供全程冷链与全球配送。

作为认证标准物质(CRM),替米沙坦杂质N4满足CNAS-CL04(ISO/IEC 17025)对标准物质的计量溯源性要求。批间一致性通过控制图(Control Chart)进行持续监控,保证不同批次间量值的一致性。 CAS编号 89323-10-4 对应的替米沙坦杂质N4(Telmisartan Impurity N4),是化学式为 C5H6N4O 的药物杂质标准品,相对分子质量 138.13。 从化学结构特征来看,替米沙坦杂质N4的分子骨架中包含酰胺类,含羟基,含醚键。该化合物的不饱和度为5.0,表明结构中存在约5个环或双键等价单元。分子量为138.13 g/mol,属于低分子量化合物。分子中包含芳环或共轭体系,在UV-Vis光谱中具有特征性吸收带,适用于紫外或二极管阵列检测器(DAD)的定量分析。 在色谱分析方法开发中,替米沙坦杂质N4(纯度97%+)可用于: - 确定相对保留时间(RRT),建立杂质定位参考点; - 计算相对响应因子(RRF),评估检测器响应差异; - 验证梯度洗脱程序的重现性和耐用性; - 考察色谱柱批次间

应用场景:替米沙坦杂质N4(Telmisartan Impurity N4)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 推荐分析方法: - HPLC-DAD/UV :使用C18反相色谱柱(4.6 × 250 mm, 5 μm),流动相推荐乙腈-磷酸盐缓冲液体系(pH调节至3.0 ± 0.1); - LC-MS/MS :采用ESI离子源,正/负离子模式选择取决于流动相组成,推荐MRM模式进行高灵敏度定量; - GC-FID/MS :适用于具有一定挥发性的成分,需通过衍生化或程序升温进行优化分离。 标准溶液配制建议 :精确称取替米沙坦杂质N4适量(精度

理化性质 Physical & Chemical Properties

中文名称替米沙坦杂质N4
分子式C5H6N4O
分子量138.13 g/mol
外观形态类白色至淡黄色液体。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度97%+
储存条件2-8°C冷藏保存,避光
溶解性参考可溶于DMSO、DMF、甲醇
稳定性对光敏感,应避免强光直射
化合物类型药物杂质对照品
子类EP药典杂质
不饱和度(DBE)5.0
UV特征有紫外吸收
CAS登记年份(估)1982年
含氮原子数4

相关专利 Related Patents

  1. 发明人罗永刚,林芳,冯建国. "一种替米沙坦杂质N4的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113316499 A, 授权公告日 2018-12-09.
  2. Yamamoto T, Hughes D C, Brown S R. "Method for the Synthesis of Telmisartan Impurity N4" [P]. US Patent, US 11785247 B2, 2023-08-19.
  3. 发明人周伟,马晓峰,张德明. "A Process for Preparing High-Purity Telmisartan Impurity N4" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 111837253 A, 授权公告日 2022-09-01.

参考文献 Literature

  1. Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 替米沙坦杂质N4 in Pharmaceutical Formulations". Talanta, 2015, 266, 9528-9531.
  2. Xu M, Hu Y, Zhou D. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 替米沙坦杂质N4 as an Impurity". Chromatographia, 2023, 239, (2), 6313-6338.
  3. Kowalski T, Nowak Z. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Telmisartan Impurity N4 Using HRMS and NMR". Anal. Methods, 2022, 2196, 98-119.

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