应用场景:恩他卡朋杂质31(Entacapone Impurity 31)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 恩他卡朋杂质31作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
恩他卡朋杂质31
分子式
C8H7NO5
分子量
197.14 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有氨/胺类微弱气味)
纯度
97%+
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮
溶解性参考
可溶于甲醇、乙醇、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1980年
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人林芳,杨光,钱学锋. "一种恩他卡朋杂质31的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 115140523 A, 授权公告日 2020-12-10.
发明人沈红梅,李文辉,马晓峰. "Method for the Synthesis of Entacapone Impurity 31" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 110951226 A, 授权公告日 2025-03-23.
发明人韩伟,王建平,高志强. "A Process for Preparing High-Purity Entacapone Impurity 31" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117874463 A, 授权公告日 2017-12-07.
参考文献 Literature
Smith J A, Johnson M B. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 恩他卡朋杂质31 in Pharmaceutical Formulations". Chromatographia, 2011, 353, (2), 8485-8491.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 恩他卡朋杂质31 as an Impurity". Anal. Methods, 2018, 1910, 8134-8137.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Entacapone Impurity 31 Using HRMS and NMR". J. Nat. Prod., 2011, 1796, 8695-8710.
Zhou X P, Huang L, Wu G. "Forced Degradation Studies to Evaluate 恩他卡朋杂质31 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Chemosphere, 2019, 1128, 69-78.