应用场景:针对药品质量控制和药物分析用途,来曲唑杂质N2(Letrozole Impurity N2)是具有明确定量溯源的认证级对照品。 法规符合性: 来曲唑杂质N2作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需提供
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
来曲唑杂质N2
分子式
C8H8ClNO
分子量
169.61 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO、水(微溶)
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
5.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1981年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
发明人马晓峰,高志强,杨光. "一种来曲唑杂质N2的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 117794081 A, 授权公告日 2016-05-04.
Chen K W, Thompson G K, Roberts E F. "Method for the Synthesis of Letrozole Impurity N2" [P]. US Patent, US 11700148 B2, 2015-04-05.
参考文献 Literature
Garcia M, Rodriguez P. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 来曲唑杂质N2 in Pharmaceutical Formulations". J. Nat. Prod., 2010, 592, 5647-5674.
Brown R C, Davis S M. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 来曲唑杂质N2 as an Impurity". Environ. Sci. Technol., 2017, 1092, 963-985.
O'Brien K, Kennedy M L. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Letrozole Impurity N2 Using HRMS and NMR". Biomed. Chromatogr., 2021, 202, (10), 6502-6510.
Brown R C, Davis S M. "Forced Degradation Studies to Evaluate 来曲唑杂质N2 Profile in Drug Substances According to ICH Guidelines". Anal. Methods, 2010, 1213, (11), 5635-5642.