应用场景:来曲唑杂质38(Letrozole Impurity 38)作为药物杂质对照品,在药品质量控制和药物分析分析领域承担着重要的角色。 法规符合性: 来曲唑杂质38作为药物杂质对照品,其质量控制策略需符合: - ICH Q3A :新原料药中的杂质限度要求; - ICH Q3B :新制剂产品中的降解产物限度要求; - USP <1086> :药物物质中的杂质(修订版); - EP 5.10 :杂质控制的要求。 如目标杂质含量超过鉴定限度(Identification Threshold),应进行结构确证。如超过认定限度(Qualification Threshold),需
理化性质 Physical & Chemical Properties
中文名称
来曲唑杂质38
分子式
C8H6ClN
分子量
151.59 g/mol
外观形态
类白色至淡黄色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味,具有氨/胺类微弱气味)
纯度
>95%
储存条件
2-8°C冷藏保存,避光,密闭保存防止挥发
溶解性参考
可溶于甲醇、乙腈、DMSO
稳定性
空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射
化合物类型
药物杂质对照品
子类
EP药典杂质
不饱和度(DBE)
6.0
UV特征
有紫外吸收
结构特征
含芳环
CAS登记年份(估)
1957年
卤素含量
Cl取代
含氮原子数
1
相关专利 Related Patents
Park J H, Patel M V, Williams B T. "一种来曲唑杂质38的合成方法" [P]. US Patent, US 11897785 B2, 2019-04-25.
发明人唐晓军,王建平,周伟. "Method for the Synthesis of Letrozole Impurity 38" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 112539996 A, 授权公告日 2024-05-21.
发明人何建平,徐明华,李文辉. "A Process for Preparing High-Purity Letrozole Impurity 38" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109764782 B, 授权公告日 2022-10-03.
参考文献 Literature
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of 来曲唑杂质38 in Pharmaceutical Formulations". J. Nat. Prod., 2024, 2347, 6421-6437.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of 来曲唑杂质38 as an Impurity". Anal. Chem., 2022, 2374, (9), 9517-9530.
Yamamoto K, Tanaka H, Suzuki T. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Letrozole Impurity 38 Using HRMS and NMR". Biomed. Chromatogr., 2019, 1867, 3824-3844.